技術(shù)文章
PECVD:等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積,指借助微波或者射頻波使腔室內(nèi)的反應(yīng)氣體分子電離,形成的高化學(xué)活性等離子體在基片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),沉積成膜。
PECVD根據(jù)等離子發(fā)射源的動作情況可分為動態(tài)和靜態(tài)。
根據(jù)設(shè)備結(jié)構(gòu)可分為鏈?zhǔn)?、團(tuán)簇式和U型。
根據(jù)射頻頻率的不同可分為RF-PECVD(13.56MHz)和VHF-PECVD(30-300MHz)
HJT設(shè)備:導(dǎo)質(zhì)結(jié)電池設(shè)備
PVD:物理氣相沉積((Physical Vapour Deposition),表示在真空條件下,采用物理方法,將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。
CVD:化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition)化學(xué)氣相沉積乃是通過化學(xué)反應(yīng)的方式,利用加熱、等離子激勵或光輻射等各種能源,在反應(yīng)器內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。•簡單來說就是:兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個反應(yīng)室內(nèi),然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成一種新的材料,沉積到基片表面上。•從氣相中析出的固體的形態(tài)主要有下列幾種:在固體表面上生成薄膜、晶須和晶粒,在氣體中生成粒子。
深圳市科銳詩汀科技有限公司在真空行業(yè)多年,致力于做專業(yè)事,公司有以下業(yè)務(wù):
一、真空獲得產(chǎn)品有:
1、美國安捷倫(Agilent Technologies)的旋片泵、干泵、羅茨泵、分子泵、分子泵機(jī)組、擴(kuò)散泵、離子泵。
2、德國普發(fā)(PFEIFFER)的旋片泵、隔膜泵、螺桿泵、泵組、羅茨泵、分子泵、分子泵機(jī)組。
3、英國愛德華(EDWARDS)真空泵
4、德國萊寶(LEYBOLD)真空泵
二、真空測量產(chǎn)品有:
1、瑞士英??担?span>INFICON)真空計及控制器
CDG電容膜片真空計(CDG020D、CDG025D、CDG045D、CDG100D、CDG160D、CDG200D、CDG025-C)
BAG402 B-A型真空計
BPG400 BPG402-S B-A型皮拉尼真空計
HPG400高壓強(qiáng)熱電離型皮拉尼真空計
BCG450 B-A型皮拉尼電容膜片真空計
PSG500/-S PSG502-S PSG510-S PSG512-S PSG550 PSG552 PSG554皮拉尼標(biāo)準(zhǔn)真空計
PCG550 PCG552 PCG554皮拉尼電容膜片真空計、
PEG100潘寧真空計、
MAG500/504 MPG500/504 MPG400/401反磁控/反磁控皮拉尼真空計、
VGC501 VGC502 VGC503 PGD400真空顯示控制器
PGE050 VGC031 BAG050 BAG051 BAG052 BAG053 VGC083A/VGC083B被動型真空計和控制器。
2、美國MKS Granville-Phillips真空計及控制器
390 Micro-lon ATM模塊
392 Micro-lon Plus模塊
356 Micro-lon Plus模塊
385 Convectron ATM模塊 復(fù)合式模塊化真空計、
275 Mini-Convectron模塊模擬量輸出型
275 Mini-Convectron模塊DeviceNet型
354 Micro-lon模塊
347 Stabil-lon模塊 模塊化一體式真空計、
307BA規(guī)控制器
358Micro-lon規(guī)管控制器
370 Stabil-lon規(guī)管控制器
475 Convectron規(guī)管控制器等系列真空規(guī)管控制器、
274 BA電離規(guī)。
三、真空檢測產(chǎn)品:
1、瑞士英??担?span>INFICON)LDS2010模塊化系統(tǒng)檢漏儀(通用于集成于工業(yè)的漏測試系統(tǒng))、Moudul1000模塊化氦檢漏儀(集成于中等自動化的檢漏臺)、UL1000 UL1000Fab UL5000氦檢漏儀、Protec p3000氦吸槍檢漏儀。
2、瑞士英??担?span>INFICON)殘余氣體分析儀(RGA)和質(zhì)譜儀
Transpector CPM3緊湊型過程監(jiān)控器
Transpector SPS 殘余氣體分析儀
Transpector XPR3+ 殘余氣體分析儀
Transpector MPH 殘余氣體分析儀
Transpector MPS 殘余氣體分析儀
QMG 700 分析質(zhì)譜儀
四、真空輔助產(chǎn)品有:
1、中國臺灣日揚(HTC)真空法蘭、波紋管、卡扣、中心圈、轉(zhuǎn)接頭、真空角閥、全金屬角閥、真空蝶閥、真空插板閥。
2、瑞士英福康(INFICON)真空連接件、視窗、真空饋入件。
3、瑞士英??担?span>INFICON)薄膜沉積控制產(chǎn)品
Cygnus 2 膜厚控制儀(OLED應(yīng)用)
IC6 膜厚控制儀(光學(xué)應(yīng)用)
XTC/3膜厚控制儀
SQC-310系列膜厚控制儀
IQM-233膜厚控制儀插件板
SQM160多層膜速率/膜厚監(jiān)測儀
STM-2XM 2通道速率/膜厚監(jiān)測儀
STM-3 可擴(kuò)展的薄膜膜厚/速率監(jiān)測儀
STM-2 USB薄膜膜厚/速率鍍層監(jiān)測儀
4、美國MKS 質(zhì)量流量控制器 1179C GE50A。
5、瑞士福特林(Vogtlin)
red-y smart 智能型系列 熱式質(zhì)量流量計和控制器(精確可靠)
red-y compact緊湊型系列 熱式質(zhì)量流量計(便捷的數(shù)字化設(shè)備)
red-y 系統(tǒng) (OEM應(yīng)用 實現(xiàn)流量測量的要求)
Q-Flow 浮子流量計
V-100 浮子流量計
M-Flow 高精度調(diào)節(jié)閥
五、真空鍍膜設(shè)備
SVACFilmLab-B箱式鍍膜機(jī)(可集成電子束、熱蒸發(fā)、磁控濺射等多個沉積模塊)
SVAC-FilmLab-T臺式鍍膜設(shè)備(可集成熱蒸發(fā)、磁控濺射等沉積模塊)
SVAC-FimLab-G帶手套箱式鍍膜設(shè)備(圓形蒸發(fā)源(金屬/有機(jī)交替分布)/束源爐)(鍍鈣鈦礦)
SVAC-FimLab-C束線多腔鍍膜設(shè)備
SVAC-UHVLab-MT材料吸氣率測試設(shè)備
SVAC-UHVLab-IMT絕熱材料放氣率測試設(shè)備
SVAC-PStat-80高真空分子泵機(jī)組
SVAC-CryoLab低溫真空系統(tǒng)
SVAC-CryoLab-TC低溫絕熱材料熱導(dǎo)率試驗臺
CryoLab-OSt4低溫恒溫器
SVAC-Sub 有機(jī)小分子升華提純系統(tǒng)(OLED材料)