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近日,國際數(shù)據(jù)平臺Quartr發(fā)布“120+全球半導體行業(yè)核心企業(yè)榜單",英??祵嵙Φ前瘢鳛椤鞍雽w制造設(shè)備和服務(wù)企業(yè)"的一員,與NVIDIA英偉達、Qualcomm高通等全球企業(yè)們共享這份榮耀!
能夠躋身這一象征著行業(yè)風向標的榜單,不僅再度證明了英??翟诎雽w領(lǐng)域的技術(shù)實力和品牌影響力,也為我們?nèi)蘸笤谛袠I(yè)內(nèi)與用戶更深度、更廣泛的合作和新的業(yè)務(wù)增長創(chuàng)造了機遇。
半導體行業(yè)精確的真空控制方案:在半導體制造中,英??档恼婵湛刂飘a(chǎn)品可應用于各種工藝步驟,確保精準控制零件及設(shè)備生產(chǎn)所必需的真空條件。
并且,我們的產(chǎn)品技術(shù)在全球范圍的眾多客戶處都得到應用與印證,是能夠幫助企業(yè)提高生產(chǎn)力、效率、正常運行時間和產(chǎn)量的優(yōu)質(zhì)方案。
晶體拉制:在晶體拉制過程中,英??档碾娙菡婵沼嬒盗锌梢钥刂评魄粌?nèi)的工藝壓力,從而生長出wanmei無瑕的硅晶體。這種精確的壓力控制對于實現(xiàn)最佳晶體生長至關(guān)重要,并有助于提高半導體材料的質(zhì)量和純度。
氧化/柵極電介質(zhì)和離子注入:在氧化/柵極電介質(zhì)和離子注入等工藝中,英??档恼婵湛刂飘a(chǎn)品可確保穩(wěn)定的真空環(huán)境。電容真空計系列可監(jiān)控工藝壓力,而皮拉尼真空計和冷陰極真空計則可提供全系統(tǒng)壓力控制。這種細致的調(diào)節(jié)對于獲得理想的材料特性和摻雜精度至關(guān)重要,從而直接影響到半導體器件的性能。
光刻技術(shù):在光刻工藝中,英??嫡婵湛刂平鉀Q方案(包括電容真空計和皮拉尼真空計)以及熱離子真空計和冷陰極真空計可實現(xiàn)工藝系統(tǒng)內(nèi)精確的壓力控制。真空元件可確保無泄漏連接,有助于提高光刻工藝的穩(wěn)定性和準確性。
蝕刻:在蝕刻工藝中,英??档恼婵湛刂飘a(chǎn)品,特別是電容式真空計,可調(diào)節(jié)工藝壓力,實現(xiàn)精確的材料去除。電容計、皮拉尼計、熱離子計和冷陰極的組合則可實現(xiàn)全系統(tǒng)的壓力控制,以確保蝕刻的一致性和高工藝可重復性。此外,采用了光學氣體分析裝置的 Augent® OPG550 能夠監(jiān)測蝕刻過程中使用的氣體成分,進一步確保工藝穩(wěn)定性和精確的材料去除。
CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP:在 CVD、PVD、ALD、EPI 和 RTP 等工藝中,英福康的真空控制產(chǎn)品在調(diào)節(jié)工藝壓力、確保材料精確沉積和開發(fā)方面發(fā)揮著重要作用。電容真空計系列可監(jiān)控過程壓力,而熱離子計、冷陰極和真空配件則有助于進行穩(wěn)定的系統(tǒng)壓力控制,提高過程均勻性和設(shè)備性能。我們的光學氣體分析儀 Augent® OPG550 能夠監(jiān)控材料沉積過程中的氣體成分,確保最佳條件。